第1182章：一个新的时代，即将来临 (第1/5页)

    “陈总，这台就是我们研发出来的浸润式光刻机。这一台光刻机打破了传统的干式光刻理论，采用湿式以水为媒介，从而让制程大幅度的进行了提升。虽然我们目前的制程水平是在100纳米左右，但我们随时可以进入到65纳米行例。”

    “也就是说，一但我们的浸润式光刻机上马，我们的技术水平将可以和asml比肩。同时，我们也能生产出目前最为顶尖的芯片。”

    中心国际一处秘密研究基地，林本坚兴奋的向陈宇做着介绍。

    “好，很好。”

    看着眼前这一台光刻机，陈宇同样的有些激动。

    前世，国人不知道为这样的一台光刻机奋斗了多久。

    当然。

    这倒不是说前世国人做不出光刻机。

    其实光刻机技术国人是掌握的，但要做出达到全球顶尖制程的光刻机，那就不是那么容易的事了。

    截止到2021年，前世国内最为顶尖的光刻机制程仅仅只达到90纳米。

    但asml已经达到5纳米，3纳米，甚至往2纳米方向进军。

    这是几十倍的差距。

    同样也是几代水平的差距。

    真按这样的差距进行追赶，恐怕得100年。

    幸好。

    早在之前陈宇就从台积电挖脚了林本坚。

    在他的湿式光刻理论的帮助之下，全球第一台浸润式光刻机就此诞生。

    “陈总，这台光刻机还不是我们最